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詳解超精密拋光新技術之一:什么是超光滑、超精密拋光?

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瀏覽:- 發(fā)布日期:2022-04-13 15:05:07【

我們在瀏覽CCOS小磨頭、磁流變、離子束拋光機的介紹時,經常會看到超光滑、超精密這樣的詞語,你知道它究竟是什么意思嗎?接下來我們將通過三篇文章詳細為大家闡述。今天首先帶來第一篇:什么是超光滑、超精密拋光。

玻璃拋光歷史悠久,中世紀歐洲制造玻璃鏡時,采用了粗磨、細磨和拋光,我國乾隆時期玻璃的拋光質量已很高。

目前除了平板玻璃、器皿玻璃、藝術玻璃應用傳統(tǒng)的拋光技術外,先進的光學制造、微光學制作、IT及光電子行業(yè)的基片制作均需要超光滑和超精密拋光技術,如平板顯示器(FPD) 普通Genii型的粗糙度Ra <20nm,有源矩陣a-SiTFT和P-SiTFT基片玻璃的粗糙度均要求小于5nm。光盤和磁盤基片玻璃要求表面粗糙度為1-6nm,哈勃望遠鏡的輕型主鏡拋光后粗糙度達12nm,這些超光滑和超精密要求,促進了拋光新技術的發(fā)展。

超光滑拋光(Super-smoothpolishing)指拋光后表面粗糙度達到納米級,從零點幾納米到幾十納 米。

超精密拋光(ultra-precisionpolishing)指拋光時精度是分子或原子級的拋除,也就是加工精度為納米級。

超光滑拋光和超精密拋光是緊密聯(lián)系在一起的,但也略有區(qū)別,超光滑拋光著重于拋光后表面光滑程度,而超精密拋光后的面形達到原設計的精度,兩者均可用表面粗糙度來表示。

卓精藝磁流變拋光機

-卓精藝磁流變拋光機,可實現(xiàn)超光滑、超精密拋光,加工精度:納米精度加工,RMS 1/100λ(λ=632.8nm);表面粗糙度:優(yōu)于0.5nm RMS-

近代的拋光新技術,使加工后玻璃表面粗糙度顯著降低,如采用浴法拋光(BFP),玻璃表面粗糙度可達到 0.27nm,浮法拋光表面粗糙度可小于0.2nm。

超光滑、超精密拋光技術可分為接觸式拋光和非接觸式拋光兩大類型。接觸式拋光包括CCOS小磨頭拋光(也叫數控小工具拋光)、應力盤拋光、浴法拋光(BFP)、浮法拋光、磁流變拋光等。非接觸式拋光主要指電子束拋光、激光拋光和離子束拋光。

卓精藝,專注于提供前沿性的高品質超精密光學智能拋光裝備制造(小磨頭、磁流變、離子束、超光滑)、光學材料、光機電定制產品、高精度復雜光學元件加工制造與檢測、先進工藝技術方案及轉讓、國際技術合作等服務,服務于國防、安防、科研等應用領域,為客戶提供中高端光學系統(tǒng)的產品和解決方案。如果您對我們感興趣,歡迎來電咨詢!